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公司新闻
备受外界瞩目!我国“冰刻”技术成功研发不必

  长期以来,我国的芯片行业在国外的控制下,处于被卡脖子的困境之中,现今据杭州网报道,浙江西湖大学另辟蹊径,将一种名为“冰刻”的技术成功研发,有可能使得我国不用再苦等光刻机,可把传统光刻过程使用的光刻胶换成“冰”。而该技术的研发,使得我国芯片行业有了更为广阔的想象空间。

  这是不是意味着,我国不仅不必被欧美企业在芯片行业上卡脖子,还有可能实现弯道超车的机会?如果我国的这一项技术未来能够在应用中取得成功,能够制造出高水平芯片,就有可能不必受国外的相关限制,不过目前该项技术刚有雏形,还需要一个实验、应用等过程,无法确定何时才能实现相关目标。

  传统光刻技术离不开光刻胶,在光刻过程中,首道工序便是涂抹光刻胶,这一道工序直接影响着芯片最后产出时的良品率。这个过程有多难?我们可以把它想象成把胶水涂在一块木板上,这块木板不能太小,也不能有一点不平整的地方,不然胶水无法涂抹均匀。由此可见,它有多难。而国外一直以来垄断了光刻胶制造工艺,使得我国在这一技术上受限制。

  在限制之下,我国少有企业能够制造出优秀的光刻胶,加上我国芯片企业也才刚起步,显然难与欧美制造商相较量。此次西湖大学著名教授仇旻另辟蹊径,想到了把光刻胶换成其他更有优秀的物质,比如把水凝成冰,尝试达成光刻胶没法达到的事。此外,水能够用很低的成本去达成,在零下100度的真空环境中,水能够达到无定形的冰层,且水能够对任何形状、任何大小的表面进行包裹,并能够涂抹均匀。

  这一技术很前沿,目前而言对这一技术进行研究的国家很少,世界上只有两个实验室在推进,一个是仇旻教授的团队,另一个是丹麦团队。而仇旻教授的团队相关研究人才非常少,不过这并没有使他产生任何放弃的念头,而是选择坚定去挑战。

  8年前,仇旻教授在拥有自己的实验室后,便招揽相关博士生对自己进行协助。而在他的带领下,其团队经过不懈的努力,不断地研发创新,目前已经制造出了冰刻机的雏形,为冰刻机的落地做出了巨大贡献,令国人为之振奋,外界对该技术充满了憧憬。

  如果未来冰刻机可以投入应用,我国将不必伸长脖子去等待国外的光刻机,而美方所下的相关禁令到时候也会失去作用,那么这将是我国弯道超车的好机会。不过这一技术也才刚起步,目前尚未成熟,还需要一段不确定的时间去成长,且不知道结果是否理想,所以,传统光刻技术仍需要努力去突破。但无论如何,我国能够把这一技术给研发出来已经很难得。

  在听到好消息的同时,另一个好消息传来,即美国把中芯国际列入了实体清单,使得我国芯片产业再次受到了严重的打击。为此中芯国际表示,因拥有国外光刻机等先进设备才能把更高精度的芯片研发出来,所以像10nm以下精度更高的芯片研发,于他们而言是道坎,无奈的是美方现在做出了这番动作。

  可以说,目前芯片企业最头痛的问题就是光刻机的问题,特别是极紫外线光刻机,更是难上加难,所以大家也只能选择绕开这个问题,寻找不必使用该款光刻机来制造芯片的方法,为光刻机带来了希望,对此外界也很关心这一技术的研究进度,但在这条研发之路上我国也只能耐心稳步地前行。